Plainview，N.Y.，2017年11月1日 – Veeco Instruments Inc.（Nasdaq：VECO）今天宣布與ALLOS Semiconductors（ALLOS）完成一項戰略措施，以展示200mm 矽基板用於氮化鎵藍/綠光Micro-LED的生產上。 Veeco與ALLOS合作將其專有的磊晶技術轉移到Propel® Single-Wafer MOCVD系統上，以便於現有的矽生產線上實現生產Micro-LED。
“使用Propel反應腔，我們就擁有了一項MOCVD技術來實現高產能的GaN磊晶，可滿足在200mm矽生產線上生產Micro-LED元件的所有要求， “ALLOS半導體公司執行長Burkhard Slischka表示。不到一個月的時間，我們就已經在Propel上建立了我們的技術，並且獲得了無裂紋、無回熔 (meltback-free)的晶圓，其翹曲度低於30 微米，晶體質量高，優異的厚度均勻性與小於1nm的波長均勻性。 和Veeco一起，ALLOS期待將這種技術更廣泛地應用於Micro-LED的產業中。“
Micro-LED顯示技術由< 30×30平方微米的紅色，綠色，藍色（RGB）無機LED所組成，再轉化為顯示器背板以形成子像素。與OLED和LCD相比，這些高效率LED直接發射且耗電量更低，卻可以為移動顯示器，電視機和穿戴式裝置提供卓越的亮度和對比度。Micro-LED的製造需要高質量、均勻的磊晶晶片來滿足顯示器的產量和成本控制的目標。
“與競爭對手的MOCVD平台相比，由於Veeco的TurboDisc® technology提供了更廣泛的製程範圍，因此Propel提供了一流的均勻性同時還能獲得優良的薄膜品質。”Veeco高級副總裁兼MOCVD營運總經理Peo Hansson博士表示。“將Veeco領先的MOCVD專業技術與ALLOS的GaN-on-Silicon的磊晶技術結合在一起，使我們的客戶能夠開發出低成本的Micro-LED，為新的市場中的開拓出新的應用。”
關於Veeco
Veeco (NASDAQ: VECO)是一家創新的半導體製程設備的領先製造商。我們經過驗證的MOCVD、光刻 (lithography)、雷射退火 (laser annealing)、離子束和單晶片蝕刻和清潔技術在固態照明和顯示器以及先進的半導體元件製造領域發揮重要作用。憑藉旨在最大限度地提高性能、產量和擁有成本的設備，Veeco在所有這些服務市場中擁有技術領先地位。 要了解有關Veeco創新設備和服務的更多信息，請訪問www.veeco.com
關於ALLOS Semiconductors
ALLOS是一家知識產權許可和技術工程公司，幫助全球半導體行業的客戶掌握GaN-on-Si技術並充分發揮其優勢。 ALLOS正在為其技術知識和專利提供授權，並將技術轉移到客戶的MOCVD反應腔。此外，ALLOS也正為客戶提供特定的解決方案為下一代GaN-on-Si開發中所面臨挑戰的諮詢服務。
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